duv光刻机能生产多少nm
可以生产9nm的芯片。22nm光刻机最高能生产7nm的芯片。22nm光刻机也就是duv光刻机，通过技术手段比如多次曝光可以制造出7nm芯片。最先利用duv光刻机制造出7nm芯片的是台积电和三星公司，也是目前全球可以做到7nm量产的两家公司。
duv：基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，却无法达到10nm以下。euv：能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。发光原理不同 duv：光源为准分子激光，光源的波长能达到193纳米。
基本上duv只能做到25nm，而euv能够做到10nm以下晶圆的生产。 duv主要使用的是光的折射原理，而euv使用的光的反射原理，内部必须是真空操作。以上就是duv光刻机和euv光刻机区别了，现在基本都是euv光刻机。
DUV光刻机用的是193nm深紫外光，一般可用来雕刻130nm到22nm的芯片，而中国在这方面有黑 科技 ，理论上能将其极致推到7nm，而EUV使用的是13，5nm的极紫外光，可以雕刻22nm到2nm的芯片，EUV只有阿斯麦尔能造。
也有信息称，国内优秀光刻机可能在今年底退出，其可以用以生产制造28nm到10nm等制造的芯片，加快28nm、14nm等芯片全方位国内生产制造的。
DUV光刻机可以用来生产12纳米的芯片，最多可以生产7纳米的芯片。但是EUV光刻机可以生产5纳米芯片，甚至可以用来生产3纳米工艺的芯片。因此，ASML公司卖给中国光刻机，首先是为了利益。
中国首台7纳米光刻机
1、提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导、经过近七年艰苦攻关研制的“超分辨光刻装备”项目。
2、纳米。安芯光刻机由中国科学院上海微系统与信息技术研究所研发，其最小线宽达到7纳米，具有高精度、高分辨率、高通量等特点。该光刻机已经在半导体芯片等领域得到广泛应用。
3、但是在半导体制造中，最核心的其实属于前道光刻机，其在半导体制造成本里占30%之多，中芯国际向ASML购买的EUV极紫外线光刻机就属于前道光刻机，可用于生产7纳米工艺的芯片。
4、意味着中国芯片全面突破美国封锁。7纳米芯片量产，意味着中国芯片全面突破美国封锁。这是中国半导体产业胜利反击的辉煌一刻，更是中国制造、中国科技打破质疑，登鼎世界之巅的历史性一刻。
5、价值高达2亿美元，产品就是那个最先进的7纳米光刻机。荷兰从拒绝到同意我国的光刻机购买需求，其原因也能从我国的一个音讯中发现答案。据了解，我国的一家光刻机企业已经研发出90纳米的高精度刻录机。
6、况且，就算是比亚迪做晶圆代工，用最快的速度就赶上了中芯国际，研制出7NM工艺，比亚迪也没有高端的EUV光刻机用于生产。
武汉弘芯7nm光刻机是真的吗
1、谁也没有想到，弘芯做局者才小学文凭，也没有人想到，其宣传出来的一切，那些高大上的背景，都是骗人的，连蒋尚义都被骗到上了贼船。他们真实目的就是骗武汉政府的投资，这个在业内很多人看来，一个并不高的金额。
2、当然，最可惜的还是那台完全未拆封，被抵押给银行的大陆唯一一台7nm高端光刻机！其次，从人员上来说，弘芯半导体也是兵强马壮。据悉，武汉弘芯半导体项目的技术总负责人乃是芯片界的大牛蒋尚义。
3、武汉弘芯投资了近1180亿的半导体项目。但是由于疫情的影响，导致大的资金缺口出现，使企业面临资金链断裂的风险，不得不把全新进口ASML抵押给银行。要知道这一台ASML，是双级沉浸式光刻机，也是国内唯一具备生产7nm芯片的能力。
4、天眼查显示，2020 年 1 月20 日，弘芯将引进的 ASML 光刻机抵押给武汉农村商业银行，以此贷款8亿元，在抵押信息一栏，赫然写着该光刻机全新尚未使用。蒋爸开始觉得不对劲。林雄对36氪回忆到。
华为有没有可能在研制自己的光刻机?
我国的上海微电子有限公司研发和生产光刻机，但是差距有点儿大，华为目前没有研制自己的光刻机。下文具体说一说。
目前华为是没有这个能力。 不过按照光刻机的原理，只要华为大手笔投入从全球广泛挖来光刻机研究人才投入到光刻机的研发中去，是可以研发出来的。
而且华为最为强势的核心技术也不在制造领域，而是芯片设计领域。其实说咱们中国没有制造光刻机的能力是不准确的。咱们国家的上海微电子装备厂商就拥有制造光刻机的能力。
Lscssh 科技 官观点： 因此，华为是根本不可能去自建光刻机的，没有这个技术累积，也没有庞大的资金来支撑，能小规模自建IDM就已经是非常牛的操作了。
可见光刻机制造难度之大，即便是国产光刻机龙头的上海微电子，先能实现量产的也只是90nm的精度。
因此，华为显然不会自己研发制造光刻机，这里面涉及的技术是系统工程，绝对不是一家厂商可以解决的。
